Mecanismo de regulação equilibrado da válvula de cartucho SUN FDEA-LAN para fácil regulação de alta pressão

Controles de fluxo totalmente ajustáveis e compensados por pressão com válvula de retenção de fluxo reverso fornecem regulação precisa do fluxo para aplicações de medição de entrada ou saída, onde pode haver amplas flutuações de pressão. Eles são infinitamente ajustáveis, quase fechados até o fluxo máximo. Uma válvula de retenção de alta capacidade integrada fornece fluxo irrestrito da porta 2 para a porta 1.

Todos os cartuchos de controle de fluxo de 2 portas são física e funcionalmente intercambiáveis (ou seja, o mesmo caminho de fluxo, a mesma cavidade para um determinado tamanho de estrutura). No entanto, as dimensões de extensão do cartucho da superfície de montagem podem variar.

• Um mecanismo de ajuste balanceado permite um ajuste fácil, mesmo em altas pressões.
• O design do orifício de borda afiada minimiza as variações de fluxo devido às mudanças de viscosidade.
• O vazamento mínimo é de 0,2 gpm (0,8 L/min) quando o mecanismo de ajuste é girado para a posição de desligamento.

Os cartuchos configurados com vedações EPDM são para uso em sistemas com fluidos de éster fosfato. A exposição a fluidos à base de petróleo, graxas e lubrificantes danificará as vedações.