Mecanismo de ajuste equilibrado de la válvula de cartucho SUN FDEA-LAN para un fácil ajuste de alta presión

Los controles de flujo compensados por presión y totalmente ajustables con válvula de retención de flujo inverso proporcionan una regulación precisa del flujo para aplicaciones de medición de entrada o medición de salida donde puede haber amplias fluctuaciones de presión. Son infinitamente ajustables desde casi cerrados hasta el flujo máximo. Una válvula de retención integral de alta capacidad proporciona un flujo sin restricciones del puerto 2 al puerto 1.

Todos los cartuchos de control de flujo de 2 puertos son física y funcionalmente intercambiables (es decir, la misma trayectoria de flujo, la misma cavidad para un tamaño de marco dado). Sin embargo, las dimensiones de extensión del cartucho desde la superficie de montaje pueden variar.

• Un mecanismo de ajuste equilibrado permite un ajuste fácil incluso a altas presiones.
• El diseño de orificio de borde afilado minimiza las variaciones de flujo debido a los cambios de viscosidad.
• La fuga mínima es de .2 gpm (0,8 L/min) cuando el mecanismo de ajuste se gira a la posición de cierre.

Los cartuchos configurados con sellos EPDM son para uso en sistemas con fluidos de éster fosfórico. La exposición a fluidos, grasas y lubricantes a base de petróleo dañará los sellos.